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酸堿廢氣處理設備生產(chǎn)廠家

簡要描述:

酸堿廢氣處理設備生產(chǎn)廠家酸堿噴淋塔主要的運作方式是不斷酸霧廢氣由風管引入凈化塔,經(jīng)過填料層,廢氣與氫氧化鈉吸收液進行氣液兩相充分接觸吸收中和反應,酸霧廢氣經(jīng)過凈化后,再經(jīng)除霧板脫水除霧后由風機排入大氣。吸收液在塔底經(jīng)水泵增壓后在塔頂噴淋而下,之后回流至塔底循環(huán)使用。

  • 更新時間:2024-03-30
  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 產(chǎn)品品牌:其他品牌
  • 產(chǎn)品廠地:常州市
  • 訪問次數(shù):2723
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酸堿廢氣處理設備生產(chǎn)廠家

1.酸堿廢氣概述

工業(yè)酸堿廢氣主要來源于化工、電子、冶金、電鍍、紡織(化纖)、食品、機械制造等行業(yè)生產(chǎn)過程中排放的酸、堿性廢氣,其排放至室內(nèi)對人體健康有危害,排放至室外對大氣、土壤、植物、建筑等有危害,為人類和環(huán)境營造良好的生存空間,合理處理廢氣中的酸堿性氣體是控制大氣污染的必要措施。酸堿廢氣處理通常用到噴淋塔,這里統(tǒng)稱為酸堿噴淋塔。

2.酸堿噴淋塔工作原理

酸堿噴淋塔主要的運作方式是不斷酸霧廢氣由風管引入凈化塔,經(jīng)過填料層,廢氣與氫氧化鈉吸收液進行氣液兩相充分接觸吸收中和反應,酸霧廢氣經(jīng)過凈化后,再經(jīng)除霧板脫水除霧后由風機排入大氣。吸收液在塔底經(jīng)水泵增壓后在塔頂噴淋而下,之后回流至塔底循環(huán)使用。凈化后的酸霧廢氣達到地方排放標準的排放要求,低于國家排放標準。

3.酸堿噴淋塔的結(jié)構(gòu)組成

酸堿廢氣處理塔分單塔體和雙塔體。采用圓形塔體,用法蘭分段連接而成。具體由貯液箱、塔體、進風段、噴淋層、填料層、旋流除霧層、出風錐帽、觀檢孔等組成。

4.酸堿噴淋塔特點

(1)工藝簡單,管理、操作及維修相當方便簡潔,不會對車間的生產(chǎn)造成任何影響。

(2)壓降較低,操作彈性大,且具有很好的除霧性能。

(3)凈化處理效果較好,去除率可高達95%以上。

5.酸堿廢氣處理工藝流程

酸堿廢氣處理具體工藝流程:去除的酸霧廢氣→進入風管→經(jīng)過酸堿噴淋塔凈化處理→風機→風管→達標排放。

6.酸堿噴淋塔適用范圍

酸堿噴淋塔廣泛應用于化工、電子、冶金、電鍍、紡織(化纖)、食品、機械制造等行業(yè)生產(chǎn)過程中排放的酸、堿性廢氣的凈化處理。

酸堿廢氣處理設備生產(chǎn)廠家

電子半導體行業(yè)酸堿性廢氣處理方法,推薦使用噴淋塔。這是因為半導體制造中產(chǎn)生的酸性和堿性廢氣采用分別收集、分別處理的方法,但處理設備和處理原理基本相同。

對于含有 酸性/堿性物質(zhì)的廢氣,大都采用大型洗滌式中央廢氣處理系統(tǒng)進行處理。但是,有些情況下,由于半導體制造工作區(qū)域離中央廢氣處理系統(tǒng)距離較遠,因此部分酸性/堿性廢氣在輸送至中央廢氣處理系統(tǒng)前,常因氣體特性導致在管路中結(jié)晶或粉塵堆積,造成管路堵塞后導致氣體外泄,嚴重者甚至引發(fā)爆炸,危害現(xiàn)場工作人員的工作安全。

因此,在工作區(qū)域需配置適合制程氣體特性的就地廢氣處理設備進行就地處理,之后再排入中央處理系統(tǒng),而一些特殊的廢氣,包括劇毒、自燃、易爆等廢氣則需要先通過干式洗滌塔等設備通過吸附或氧化/燃燒等方法就地處理,之后再排人中央廢氣處理系統(tǒng) 。

 

1、酸堿性廢氣的來源

電子半導體行業(yè)中酸堿性廢氣的來源為化學清洗站,具有刺激性及有害人體,故酸堿性廢氣的處理方法一般是以濕式洗滌塔做水處理后再排入大氣。洗滌塔利用床體或濕潤的表面可以去除0.1微米以上的粒子。其氣體與液體的接觸方式有交叉(垂直交叉)流式、同向流式及逆向流式三種,而水流的設計上,有噴嘴式,噴霧式,頸式及拉西環(huán)式等四種。

 

2、以下半導體企業(yè)生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的廢氣均可處理:

Ø  集成電路生產(chǎn)企業(yè):主要包括數(shù)字集成電路板及模擬集成電路板生產(chǎn)企業(yè)。

Ø  分立器件生產(chǎn)企業(yè):主要包括晶體二極管、三極管,整流二極管,功率二極管、化合物二極管等生產(chǎn)制造企業(yè)。

Ø  光電組件生產(chǎn)企業(yè):包括LED、OLED、LCD、光伏太陽能等的生產(chǎn)制造企業(yè)。

由于半導體工藝對操作室清潔度要求*,通常使用風機抽取工藝過程中揮發(fā)的各類廢氣,因此半導體行業(yè)廢氣排放具有排氣量大、排放濃度小的特點。廢氣排放也以揮發(fā)為主。

與半導體制造工藝相比,半導體封裝工藝產(chǎn)生的廢氣較為簡單,主要是酸性氣體、環(huán)氧樹脂及粉塵。酸性廢氣主要產(chǎn)生于電鍍等工藝;烘烤廢氣則產(chǎn)生于晶粒粘貼、封膠后烘烤過程;劃片機在晶片切割過程中,產(chǎn)生含微量矽塵的廢氣。

 

 

 

 


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